半導(dǎo)體光刻用光源制造商Gigaphoton Inc.（總部：櫪木縣小山市；總裁兼首席執(zhí)行官：Tatsuo Enami）宣布，“G300K”微孔加工光源已交付給日本一家專(zhuān)門(mén)從事后端設(shè)備制造的設(shè)備制造商，該集成系統(tǒng)已成功安裝在美國(guó)一家公司的工廠內(nèi)。

Gigaphoton將其在半導(dǎo)體光刻光源方面的專(zhuān)業(yè)知識(shí)用于開(kāi)發(fā)先進(jìn)封裝工藝的超精細(xì)刻蝕處理光源。

G300K是一種基于KrF（248nm）波長(zhǎng)的準(zhǔn)分子激光器，可集成到半導(dǎo)體封裝基板的加工設(shè)備中。該激光器讓長(zhǎng)壽命模塊獲得高功率、高重復(fù)率、高可靠性的優(yōu)勢(shì)，并主要用于加工直徑超過(guò)10μm的微孔以及溝槽圖案。該激光器有望用于借助芯片組制造2.5D/3D封裝，預(yù)計(jì)主要用于人工智能芯片組的芯片將有所增加。

Gigaphoton總裁兼首席執(zhí)行官Tatsuo Enami表示：“在Gigaphoton，我們?cè)谘邪l(fā)半導(dǎo)體光刻光源的同時(shí)，也一直在探索準(zhǔn)分子激光在其他領(lǐng)域應(yīng)用的各種可能性。 我們將繼續(xù)加快研發(fā)工作，拓展新的領(lǐng)域。 作為半導(dǎo)體制造行業(yè)的重要光源制造商，我們將繼續(xù)通過(guò)不斷研發(fā)新工藝來(lái)促進(jìn)準(zhǔn)分子激光器的進(jìn)一步應(yīng)用，從而為該行業(yè)做出貢獻(xiàn)�！�

關(guān)于GIGAPHOTON

自2000年成立以來(lái)，GIGAPHOTON一直作為光源制造商為全球半導(dǎo)體制造商提供寶貴的解決方案。 從研發(fā)到制造、銷(xiāo)售和維護(hù)服務(wù)的每一個(gè)階段，GIGAPHOTON致力于從日常用戶(hù)的角度提供世界一流的支持。